更新日：2021年10月28日
2021年11月3日から5日にかけてオンラインで開催されるUltraPure Micro 2021 Conferenceにおいて、当社の技術者が以下の発表を行います。
・3rd November 9:30-9:55 PST <Session: ULTRAPURE WATER>
"Functional water solutions to enable advanced wet cleaning process for next-generation semiconductor device manufacturing"
Hideaki IINO, KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
・4th November 9:15-9:40 PST <Session: ULTRAPURE WATER>
"Study on particle behavior in ultrapure water"
Yoichi TANAKA, KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
UltraPure Micro Conferenceでは、半導体業界における超純水の水質（メタル、TOC、微粒子等）、超純水製造システムおよび超純水供給システムの最適化、環境負荷低減、高純度薬品、高純度ガス、排水回収システム等に関する最新のトレンド情報を発信されています。 今回開催されるUltraPure Micro 2021では超純水、水マネジメント、高純度薬品&ガス、AMC（airborne molecular contamination）のセッション毎に各種討論が行われます。
詳細についてはこちらをご参照ください。
URL：http://ultrapuremicroevents.com/
November 3 – 5, 2021 / Virtual Event
