基盤技術表面処理技術

半導体や液晶等の電子産業において、シリコンウェハーやガラスパネルの表面を洗浄、改質する技術。

半導体や液晶等の製造では、半導体の基板や液晶のガラスパネルの表面に付着した微粒子等を超純水と薬液によって洗浄する、ウェット洗浄工程があり、従来は大量の薬液を使用して洗浄していました。これに対し、特定のガスを超純水に溶かすことで、洗浄効果の向上に加え、基板表面の酸化による安定化や基板の静電気抑制を可能とした機能性洗浄水による表面処理技術が注目されています。水素ガスやオゾンガスなどを溶解した機能性洗浄水を用いることで、薬液を大幅に削減可能です。また、半導体の回路を形成する際に用いられ、回路の形成後に除去されるレジストと呼ばれる樹脂は、大量の薬剤を用いて剥離しています。このレジスト剥離にクリタが開発したレジスト分解効果の高い電気分解した硫酸(電解硫酸)を用いることで、従来より大幅に薬液使用量を削減することができます。

クリタはこれらの表面処理技術を活用し、半導体や液晶の製造工程に付加価値の高い装置をご提供しています。